会社概要
| 会社名 | ナプソン株式会社 |
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| 設立年月日 | 1984年7月4日 |
| 資本金 | 50,000,000円 |
| 代表取締役 | 中村 真 |
| 事業内容 | 半導体関連測定機器の研究開発、製造販売 |
| 所在地 |
（本社)
〒136-0071 東京都江東区亀戸2-36-12 エスプリ亀戸7階【Google maps】 千葉技術センター
〒267-0056 千葉市緑区大野台2-5-10【Google maps】 |
| 取引銀行 |
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会社沿革
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1984年7月半導体関係の測定機器と関連製品の開発･製造･販売を目的に設立
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1986年8月シリコンウエハー抵抗率、シート抵抗マッピングシステム販売開始
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1987年3月フラットパネル（液晶など）シート抵抗測定システム開発製品化
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1988年6月韓国、台湾の商社と販売代理店契約を締結
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1988年7月技術センター（工場）を、東京（江東区）から千葉市に移転･稼働開始
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1989年6月シリコンウエハー全自動測定システム開発製品化
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1993年3月非接触（渦電流法）抵抗率・厚さ・P/N測定システム開発製品化
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1993年10月全自動フラットパネル・シート抵抗測定システム開発製品化
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1995年5月非接触全自動測定システム開発製品化
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1998年6月技術センターを千葉県市原市に新設･移転 (市原技術センター）
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2002年4月EU、中国、アメリカの商社と販売代理店契約を締結
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2003年5月技術センターを千葉市土気に増設 (千葉技術センター）
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2004年4月フラットパネル非接触抵抗・膜厚全自動測定システム開発製品化
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2004年7月Napson Korea Co., Ltd. を韓国ソウルに設立
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2007年1月大連理工大学（中国）と共同研究室を設立
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2007年12月太陽電池シリコンウエハー用抵抗率測定システム開発製品化
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2008年5月経済産業省 元気なモノづくり中小企業300社に選定
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2010年12月大連理工大学（中国）との共同研究契約を更新（～2012年12月まで）
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2011年11月東京都ベンチャー技術大賞 最終ノミネート
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2014年1月ウエハー平坦度測定器開発製品化
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2016年7月東京都 東京のキラリ200社に選定
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2016年8月米国SCI(Scientific Computing International)社と日本総代理店契約を締結
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2018年7月千葉技術センターにクリーンルーム新建屋完成
主要納入先（抜粋）
業種を問わず、多大な優良企業様への実績が多数ございます。（*敬称略、順不同）
| 旭硝子株式会社 | キヤノン株式会社 |
| 大日本印刷株式会社 | 富士フイルム株式会社 |
| 株式会社日立製作所 | 本田技研工業株式会社 |
| 株式会社ジャパンディスプレイ | 株式会社神戸製鋼所 |
| 京セラ株式会社 | 三菱電機株式会社 |
| 日亜化学工業株式会社 | 株式会社ニコン |
| 新日鐡住金株式会社 | パナソニック株式会社 |
| ローム株式会社 | シャープ株式会社 |
| 信越化学グループ（信越化学工業株式会社、信越半導体株式会社、信越ポリマー株式会社など） | ソニー株式会社 |
| 株式会社SUMCO | 株式会社トクヤマ |
| 凸版印刷株式会社 | 株式会社東芝 |
| 東レ株式会社 | AIST [(独)産業技術総合研究所] |
| JST [(独)科学技術振興機講] | NIMS [(独)物質･材料研究機構] |
| 京都大学 | 東北大学 |
| 東京大学 | Apple Inc. |
| Applied Materials, Inc. | BASF SE |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | Honeywell International Inc. |
| Infineon technologies AG | Intel Corporation |
| OKMETIC OYJ | ON Semiconductor |
| Robert Bosch GmbH | Saint-Gobain SA |
| SunEdison Semiconductor, Ltd | Topsil Semiconductor Materials A/S |
| Vishay Intertechnology, Inc. | X-FAB Semiconductor Foundries AG |
| Fraunhofer-Gesellschaft | IEMN [Institut d’Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie] |
| ISFH [Institut für Solarenergieforschung Hameln] | LETI [Laboratoire d’électronique des technologies de l’information] |
| AU Optronics Corp. | BOE Co,Ltd. |
| CSOT CORPORATION [China Star Optoelectronics Technology] | Delta Electronics, Inc. |
| EPISTAR Corporation | Foxconn Technology Group. (Innolux Corporation, Century Display) |
| Hangzhou Haina semiconductor Co.,Ltd. | Motech Industries, Inc. |
| Neo Solar Power Corporation | SF-PV(Shunfeng Photovoltaic International Limited) |
| Shanghai Sinyang Semiconductor Material Co., Ltd | Suntech Power |
| Tianma Micro-electronics Co. | TPK Holding Co., Ltd |
| Wafer Works Corporation | Xi’an LONGI Silicon Materials Corp. |
| Harbin Institute of Technology | DONGWOO FINE-CHEM |
| Hanwha Chemical Corporation | Hyundai Heavy Industries |
| LG Group [LG Siltron Inc., LG Chem Ltd, LG Display Co., Ltd, LG Electronics Incorporated etc] | Samsung Group [Samsung Electronics Co., Ltd, Samsung Display Co.,Ltd., Samsung SDI etc] |
| KIST(Korea Institute of Science & Technology) | Seoul National Univ |